参考案例湖南某新能源股份有限公司诉某高新技术材料（大连）有限公司等专利权权属、侵权纠纷案

湖南某新能源股份有限公司诉称：其合法拥有“一种海绵状泡沫镍的制备方法”发明专利权，被告某高新技术材料（大连）有限公司未经许可，为生产经营目的长时间、大规模地使用涉案专利方法生产泡沫镍产品并在国内外大量销售，侵犯其发明专利权。湖南某新能源有限责任公司未经许可，为生产经营目的，从某高新技术材料（大连）有限公司处直接购买依照专利方法直接获得的产品并生产镍氢电池，亦侵犯其发明专利权。请求判令某高新技术材料（大连）有限公司、湖南某新能源有限责任公司立即停止侵权；某高新技术材料（大连）有限公司赔偿其经济损失4990万元；某高新技术材料（大连）有限公司、湖南某新能源有限责任公司承担全部诉讼费用。

某高新技术材料（大连）有限公司辩称：其已就涉案专利提出无效宣告请求，本案应予中止；其生产泡沫镍产品的方法未落入涉案发明专利权的保护范围；原告要求赔偿4990万元无事实和法律依据。

湖南某新能源有限公司辩称，其能够提供所使用的泡沫镍产品的合法来源，且对该产品或生产该产品的方法是否侵权并不知情，不应承担赔偿责任。

法院经审理查明：1995年3月11日，某大学申请了“一种海绵状泡沫镍的制备方法”发明专利，专利申请号为95102640.X。该发明专利公开日为1995年10月11日，授权日为1998年9月12日。ZL95102640.X号发明专利（以下简称涉案专利）的专利权人变更情况为：2002年3月28日变更为石某某、张某某、李某某；2003年3月19日变更为沈阳某化工有限公司；2007年6月1日变更为长沙某新材料股份有限公司；2008年7月16日，更名为现原告公司名称，2008年8月15日涉案专利的专利权人变更为现原告公司。涉案专利权利要求1记载的内容为：一种海绵状泡沫镍的制备方法，使用经过粗化的聚醚聚胺酯作基底，制作电镀用阴极；经镀镍，水洗干燥等后处理过程，制备出海绵状泡沫镍，所说的镀镍是在含镍离子的电镀液中进行，时间为（40～50分钟）；

本发明的特征在于所说的制作电镀用阴极是用磁控溅射的方法进行的，在镀膜机中，以纯镍为靶，在氩气气氛中，控制电流密度在（0.1～1.5）×10-2A/cm2范围，控制溅射时间在（20～100）S，两电极间距离在（10～30）cm之间，溅射前先抽真空，真空度为（0.8～3.5）×10-5毫米汞柱，充入氩气后真空度在（2～3.5）×10-4毫米汞柱；通电后，在基底表面和孔隙内生长镍，形成含金属镍的电镀用阴极；所说的后处理是在（800～900）℃温度下保温1小时，烧掉聚醚聚胺酯基底。

2003年11月19日，某高新技术材料（大连）有限公司成立，其经营范围为发泡镍制造、销售，新材料研发，技术咨询，售后服务，国际贸易，该公司的外资投资方为英某亚洲控股有限公司、某国镍业公司。

2007年5月，在深圳举办的某公司第二届（中国）能源材料研讨会上，某高新技术材料（大连）有限公司孙某某总经理对其公司生产泡沫镍的情况进行了介绍，其会议材料某大连公司“工艺路线”显示，其生产泡沫镍的工艺包括PVD、电镀、热处理、裁剪四个步骤。某高新技术材料（大连）有限公司生产了海绵状泡沫镍产品，在其生产泡沫镍的PVD真空镀工序中，使用“IMG-1000型真空磁控溅射镀膜机”，使用的基材是聚酯聚氨酯软泡沫。对基材进行镀膜的真空磁控溅射镀膜机内基材两侧对称平行设置一对上下错位相向的镍靶，形状为长方形，镍靶长145cm，镍靶宽为25.1cm，使用的靶材为纯镍，两镍靶上靶的上沿和下靶的下沿之间的垂直距离为850mm，两镍靶之间的垂直距离为25.5cm，基材在上下胶辊间的距离为1570mm。镀膜电流为10～30A，镀膜速度为0.4～0.9m/min，本底真空度为≤2.0×10-2Pa；

工作真空度为（2.0～2.5）×10-1Pa。具体操作时的工艺参数为：基材厚度分别是1.7mm、1.71mm、1.73mm，阴极镍靶镀膜电流分别为26A、25A，镀膜速度为0.8m/min，起靶前真空度2.0×10-2Pa，选择氩气气氛，工作真空度为2.1×10-1Pa、2.2×10-1Pa、2.3×10-1Pa、2.5×10-1Pa。镀膜后基材在电镀工序中完成镍的沉积，所得产品具有不同面密度。该工序预镀时间16分22秒53，主镀时间52分40秒。对电镀后产品经过水洗干燥后送至热处理工序进行处理。热处理工艺中，烧结焚烧炉长度是6.7米，氧化处理温度为(400～650)℃，烧结还原炉长度是6.0米，还原段炉温(820～950)±20℃，走速为25米/小时。

2007年至2008年间，湖南某新能源有限责任公司从某高新技术材料（大连）有限公司购进“英可泡沫镍”，并使用其生产电池。

湖南省长沙市中级人民法院于2009年9月29日作出（2008）长中民三初字第0501号民事判决：一、某高新技术材料（大连）有限公司和湖南某新能源有限责任公司立即停止侵犯湖南某新能源股份公司ZL95102640.X号发明专利权的行为；二、某高新技术材料（大连）有限公司赔偿湖南某新能源股份有限公司经济损失人民币29814197.96元；三、驳回湖南某新能源股份有限公司的其他诉讼请求。案件受理费292100元，证据保全费5000元，共计297100元，由湖南某新能源股份有限公司负担59420元，某高新技术材料（大连）有限公司负担237680元。某高新技术材料（大连）有限公司不服上述判决，提起上诉。

湖南省高级人民法院于2010年6月20日作出（2010）湘高法民三终字第1号民事判决：驳回上诉，维持原判。二审案件受理费191671元，由某高新技术材料（大连）有限公司负担。某高新技术材料（大连）有限公司不服上述判决，向最高人民法院申请再审。最高人民法院指定江苏省高级人民法院再审本案。江苏省高级人民法院于2013年6月27日作出（2011）苏知民再终字第0001号民事判决：一、撤销湖南省高级人民法院（2010）湘高法民三终字第1号民事判决及湖南省长沙市中级人民法院（2008）长中民三初字第0501号民事判决；二、驳回湖南某新能源股份有限公司的诉讼请求。法院生效裁判认为：被控侵权技术方案中的“本底真空度和工作真空度”这一技术特征与涉案专利独立权利要求1所要求的“本底真空度和工作真空度”技术特征既不相同也不等同。

首先，被控侵权技术方案中的本底真空度及工作真空度与涉案专利相差一个数量级（10倍），明显不相同。

其次，对于本底真空度而言，由涉案专利权利要求中的（1.1～4.7）×10-3Pa降低到2×10-2Pa，相差一个数量级（大约10倍左右），相对于权利要求对本底真空度所限定的变化范围（即在10-3Pa数量级上由1.1变化到4.7，大约4倍的压力变化），大约10倍的压力变化应属于明显差异。因此，一方面，在没有直接证据显示这样的变化不会引起真空室内杂质含量的变化进而影响溅射膜纯度的情况下，不应当认为在溅射膜纯度方面二者能够达到基本相同的效果；另一方面，涉案专利相对于被控侵权技术方案的压力变化达到10倍，必然会对抽真空动力源、设备的承压能力等提出更高的要求，并且需要更长的操作时间，因此，在这些方面也不能认定涉案专利与被控侵权技术方案达到了基本相同的效果。

而对于工作真空度而言，由专利权利要求中的（2.7～4.7）×10-2Pa（高真空度）降低到（2.0～2.5）×10-1Pa（中真空度），相差一个数量级（大约10倍左右），相对于权利要求对工作真空度所限定的变化范围（即在10-2Pa数量级上由2.7变化到4.7，大约2倍的压力变化），大约10倍的压力变化应属于明显差异。因此，在没有直接的证据表明此大约10倍的压力变化不会影响溅射效率的情况下，不应认定涉案专利与被控侵权技术方案达到了基本相同的效果。

再次，对于磁控溅射过程中所涉及的各种参数条件，虽然都是现有技术中曾经提到过或者是从现有技术大范围中选择出的小范围，但是，这些工艺参数并不是孤立存在的，为了获得最终的期望溅射效果，通常需要结合具体操作条件，并在设计人员精心计算的基础上进行大量的具体实验才能确定出合适的参数范围，并且这些参数范围都是配套使用的。因此，这些参数已经由现有技术中供所有人员参考选择的公开属性转变为专用于某种特定对象的专有属性。而被控侵权技术方案中所采用的本底真空度和工作真空度则系本领域普通技术人员无须创造性劳动即可从现有技术中轻易得到的技术方案。因此不能轻易地以两者间可能存在简单联想来主张等同特征的适用。

最后，涉案专利权利要求中本底真空度和工作真空度是有明确端点的数值范围，与权利要求中其他具体的技术特征（例如聚醚聚氨酯特征）不同，有明确端点的数值范围是经过专利申请人进行了概括选择之后所确定的范围。一方面，不应当将有明确端点的数值范围之外，并且与该范围差异明显的数值纳入等同技术特征的范围内。另一方面，在专利申请阶段可能导致专利无法获得授权的过于宽泛的数值范围，既然其没有记载在授权后的权利要求范围内，如果通过等同特征的方式再将其纳入专利的保护范围内，显然对于公众而言是不公平的。因此，对于权利要求中端点明确的数值范围，其等同特征的范围应当相对狭窄，即应当严格控制等同原则的适用。

综上所述，因被控侵权技术方案中的“本底真空度以及工作真空度”技术特征与涉案专利权利要求记载的“本底真空度以及工作真空度”必要技术特征既不相同也不等同，故被控侵权技术方案未落入涉案专利权的保护范围，某高新技术材料（大连）有限公司使用该技术方案未侵犯湖南某新能源股份有限公司的涉案专利权。遂再审改判驳回湖南某新能源股份有限公司的诉讼请求。专利权利要求中有明确端点的数值范围是经过专利申请人进行概括选择之后所确定的范围。如专利所要求保护的技术方案系对现有技术方案进行优化选择而形成的优选技术方案,且限定有明确端点数值范围的技术特征，其适用等同的范围应当受到严格限制。